{"id":3525,"date":"2025-05-08T14:42:30","date_gmt":"2025-05-08T06:42:30","guid":{"rendered":"https:\/\/www.gastonghui.com\/news\/ningxia-tonghui-gas-co-ltd-launches-cutting-edge-metal-ion-laboratory-to-serve-semiconductor-industry\/"},"modified":"2025-05-08T14:49:15","modified_gmt":"2025-05-08T06:49:15","slug":"ningxia-tonghui-gas-co-ltd-launches-cutting-edge-metal-ion-laboratory-to-serve-semiconductor-industry","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.gastonghui.com\/de\/news\/ningxia-tonghui-gas-co-ltd-launches-cutting-edge-metal-ion-laboratory-to-serve-semiconductor-industry\/","title":{"rendered":"Ningxia Tonghui Gas Co., Ltd. er\u00f6ffnet hochmodernes Metallionenlabor f\u00fcr die Halbleiterindustrie"},"content":{"rendered":"<p><strong>Einf\u00fchrung<\/strong><\/p>\n<p>Am 16. April 2025 nahm die Ningxia Tonghui Gas Co., Ltd. ihr Metallionenlabor im Zhongwei-Industriepark offiziell in Betrieb, nachdem die letzte Ger\u00e4techarge erfolgreich getestet worden war. Diese hochmoderne Anlage wurde speziell f\u00fcr die hochpr\u00e4zisen Pr\u00fcfanforderungen der Halbleiterindustrie konzipiert und wird die Qualit\u00e4tskontrollkapazit\u00e4ten des Unternehmens deutlich verbessern und die Forschung und Entwicklung sowie Produktion fortschrittlicher Materialien unterst\u00fctzen.<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<p><strong>Hauptmerkmale des Labors<\/strong><\/p>\n<ul>\n<li><strong>Investitionen und Bau<\/strong><\/li>\n<\/ul>\n<p>Gesamtinvestition: 3 Millionen RMB (ca. $420.000 USD)<\/p>\n<p>Projektzeitplan: Der Bau begann im November 2024, mit beschleunigter Inbetriebnahme, um dringenden Bedarf der Industrie zu decken.<\/p>\n<p>Reinraumstandard: \u00dcbertrifft&nbsp;<strong>ISO 14644-1 Klasse 1000<\/strong>&nbsp;Spezifikationen, die &lt;1.000 Partikel pro Kubikmeter (\u22650,5 \u03bcm Gr\u00f6\u00dfe) gew\u00e4hrleisten. Dies minimiert luftgetragene Verunreinigungen, die empfindliche Analysen verf\u00e4lschen k\u00f6nnten.<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<ul>\n<li><strong>Fortschrittliche Ausr\u00fcstung<\/strong><\/li>\n<\/ul>\n<p>Agilent ICP-MS (Induktiv gekoppeltes Plasma-Massenspektrometer):<\/p>\n<p>Erkennungspr\u00e4zision bis in den ppt-Bereich (parts per trillion)<\/p>\n<p>Unterst\u00fctzt die gleichzeitige Analyse mehrerer Elemente<\/p>\n<p>Milli-Q IQ Element Ultra-Pure Water System: Sorgt f\u00fcr hochreines Wasser f\u00fcr Experimente<\/p>\n<p>Klimakontrollsystem: Sorgt f\u00fcr stabile Temperatur und Luftfeuchtigkeit und gew\u00e4hrleistet so zuverl\u00e4ssige Testbedingungen<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<ul>\n<li><strong>Testfunktionen<\/strong><\/li>\n<\/ul>\n<p>Erkennt pr\u00e4zise \u00fcber 20 Metallionenverunreinigungen, darunter Blei (Pb), Cadmium (Cd), Arsen (As) und Quecksilber (Hg)<\/p>\n<p>Anwendbar auf Branchen wie Pharmazeutika, elektronische Materialien und Halbleiter<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<ul>\n<li><strong>Qualit\u00e4tssicherung<\/strong><\/li>\n<\/ul>\n<p>Strenges R\u00fcckverfolgbarkeitssystem: Jeder Schritt \u2013 von der Probenregistrierung bis zur Datenanalyse \u2013 wird sorgf\u00e4ltig dokumentiert, um die Authentizit\u00e4t und R\u00fcckverfolgbarkeit der Daten zu gew\u00e4hrleisten<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<p><strong>Auswirkungen auf die Branche<\/strong><\/p>\n<p>Dieses Labor positioniert Ningxia Tonghui Gas als Schl\u00fcsselakteur in der Lieferkette f\u00fcr hochreine Gase und Materialien, insbesondere f\u00fcr die Halbleiterfertigung, wo extrem niedrige Verunreinigungsgrade entscheidend sind. Durch die Integration von Pr\u00e4zisionsinstrumenten und strengen Qualit\u00e4tsprotokollen will das Unternehmen Chinas wachsende Nachfrage nach lokalisierten, hochwertigen Industriel\u00f6sungen unterst\u00fctzen.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Einleitung: Am 16. April 2025 nahm die Ningxia Tonghui Gas Co., Ltd. ihr Metallionenlabor im Zhongwei-Industriepark offiziell in Betrieb, nachdem die letzte Ger\u00e4techarge erfolgreich getestet worden war. 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